pvd是什么意思(pvd是什么意思？)

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正文

1、pvd是什么意思？

1、PVD(Physical Vapor Deposition)是物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。 2、PVD(Programmable Voltage Detector)，即可编程电压监测器。应用于STM32ARM芯片中，作用是监视供电电压，在供电电压下降到给定的阀值以下时，产生一个中断，通知软件做紧急处理。当供电电压又恢复到给定的阀值以上时，也会产生一个中断，通知软件供电恢复。

2、手表上pvd是什么意思？

PVD(Physical Vapor Deposition):物理气相沉积，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。一般用来表面改性或镀涂层。

3、pvd和cvd各是什么意思？

CVD称为化学气相沉积，也就是利用化学反应，让二种原本不相甘的材料经过化学反应的方式产生另一个新的化合物，然後沉积在你的基板上面。称为CVD。通常导入的气体是要跟著反应的气体。

PVD称为物理气相沉积，也就是只行物理反应，通入的气体并没有与里面的预镀材料发生化学变化而产生新的化合物(顶多就让材料变成离子态)。然後镀在材料基板上面。

像锡钯zxab 如果直接打出来，而沉积在基板上的，就叫PVD。但如果有与通入的气体反应(ex：O)那变成有经过化学变化，应该称为CVD。

4、pvd是什么材料？

PVD是物理气象沉积的英文缩写简称，国内俗称“镀钛”手表外壳上的PVD是指在外壳表面有层PVD镀层，一般的材料为氮化钛TIN（黄色），TIC（黑色），CrN（银白色），TIALN（玫瑰色）该镀层具有硬度高，美观，不容易磨损等特点

5、PVD镀金是什么？

PVD就是镀钛，与同等厚度的镀金相比，耐磨程度是镀金的5倍以上。但缺点是颜色发暗没有镀金那么光亮，所以一般在镀钛以后，其表面都覆盖有一层金色的保护膜，看起来和18K金一样漂亮。但是经过一段时间的佩戴保护膜就会被磨掉显露出下面的钛。

6、PVD和CVD分别是什么？

PVD是指physical vapor deposition 和CVD是指chemical vapor deposition，顾名思义，前者是采用物理方法（常用的为溅射、蒸发）实现薄膜沉积，主要用于沉积金属薄膜和介质薄膜，常用设备有磁控溅射台和电子束蒸发台；后者则通过化学反应的方法实现沉积，主要用于沉积氧化硅、氮化硅、多晶硅膜层，根据用途不同，还可以细分为PECVD、LPCVD、ICPCVD等。磁控溅射是PVD方法中的一种。离子注入是指通过高能量（远高于PVD）将离子注入到现有基底里去，注入的离子替换掉基底原子或存在于原子间隙中，而不是在表面形成新的膜层，常用于实现半导体掺杂。一言蔽之，离子注入技术虽然出现较晚，但其功能与PVD、CVD完全不同。